传英伟达RTX 50系显卡要推迟 需重新流片提升良率

时间:2024-10-18 05:41:08来源9a href="//m.enhhh.com/">万绪千端罐/a> 作耄产品中心

日前据媒体报道,传英供应链最新消息显示,伟达由于需要重新流片(RTO)以提升良率,系显卡需重新?strong>RTX 50系列显卡的推迟上市时间将比原计划有所延后,不过并未提及会在何时发布。片描/p>

NVIDIA的升良Blackwell采用了台积电4nm制程技术,拥有2080亿个晶体管,传英但复杂的伟达封装方式导致了良率问题、/p>

传英伟达RTX 50系显卡要推迟 需重新流片提升良率

CoWoS-L封装技术虽然能提供高达10TBs的系显卡需重新流传输速度,但封装过程中的推迟精度要求极高,任何微小的片提缺陷都可能导致价值不菲的芯片报废、/p>

据透露,升良GPU晶粒、传英LSI桥接、伟达RDL中介层和主基板之间的系显卡需重新流热膨胀系数(CTE)不匹配,可能导致芯片翘曲和系统故障、/p>

为了解决这些问题,NVIDIA不得不重新设计GPU芯片的顶部金属层和凸点,这不仅影响了AI芯片,也波及到了即将发布的RTX 50系列显卡、/p>

供应链消息还指出,芯片设计问题并非NVIDIA独有,随着芯片尺寸的不断扩大,制造复杂度不可避免地增加、/p>

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